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產(chǎn)品資料

成都西野：ULVAC愛發(fā)科多室濺射設備

如果您對該產(chǎn)品感興趣的話,可以
產(chǎn)品名稱: 成都西野：ULVAC愛發(fā)科多室濺射設備
產(chǎn)品型號: MLX TM -3000N
產(chǎn)品展商: ULVAC愛發(fā)科
產(chǎn)品文檔: 無相關文檔

簡單介紹

成都西野供應：ULVAC愛發(fā)科多室濺射設備MLX TM -3000N


成都西野：ULVAC愛發(fā)科多室濺射設備  的詳細介紹
濺射裝置負載鎖定型

多室
濺射設備MLX TM -3000N

多室濺射設備 MLX TM -3000N 是一種用于半導體的薄膜沉積設備，可靈活響應各種工藝需求并實現(xiàn)高性價比。晶圓尺寸從 75 毫米到 200 毫米不等。

特征

  • 支持*大 200 mm 的電路板尺寸
  • 通過消除污染和高精度溫度控制來控制薄膜質(zhì)量
  • 靈活的工藝支持，如Al嵌入、厚膜、層壓等。

采用

  • 以半導體布線為中心的金屬化

規(guī)格

模型 MLX TM -3000N
設備配置 運輸系統(tǒng) 六角形真空轉(zhuǎn)移室 x 1 間
模塊 L / UL 室 x 2（或 L / UL 室 x 1 + 脫氣室 x 1）+ *多 4 個工藝室
板尺寸 兼容Φ75mm~200mm
搬運機器人 雙拾取真空搬運機器人
控制系統(tǒng) 電腦控制
采用 功率器件（正面和背面）、UBM、安裝器件、異形板
排氣系統(tǒng) 主排氣 LL 室：干泵
輸送室：渦輪分子泵
工藝室：低溫泵
粗拉 干泵
可安裝的工藝氣體系統(tǒng) 多達 3 個系統(tǒng)
達到壓力 輸送室：1.3 E-4Pa
工藝室：1.0 E -5Pa
電 50Hz / 60Hz, 3Φ, 200V
冷卻水 0.2-0.3MPa，溫度20-25oC，100L/min
所需氣體 各種工藝氣體：0.05-0.1MPa
N2氣：0.05-0.1MPa
壓縮的空氣 0.55～0.75MPa
接地工作 A類接地
選項 Φ75mm～200mm晶圓可更換
快門機制
靜電吸盤式基板加熱機構(gòu)
RGA：奎利
增加LL室渦輪分子泵
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